Organokřemičité plazma zkoumané hmotnostní spektrometrií
Loading...
Date
Authors
Moravanský, Martin
Advisor
Referee
Mark
D
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická
ORCID
Abstract
Tato bakalářská práce se zabývá plazmochemickou depozicí z plynné fáze (PECVD) a použitím hmotnostní spektrometrie ke sledování procesů v plazmatu během depozice tenké vrstvy. Při procesu tvorby tenké vrstvy nanášené na křemíkovou podložku byl použit elektrický výboj hořící v parách tetravinylsilanu. Bylo charakterizováno pozadí spektrometru, plazmového reaktoru se zbytkovými plyny při základním vakuu a monitorován proces plazmové polymerace. Tento děj byl monitorován za zvyšujícího se efektivního výkonu (2-150 W). Získaná hmotnostní spektra byla interpretována a podrobně popsána.
This bachelor thesis deals with plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) and the use of mass spectrometry to monitor the processes in plasma during the deposition of thin film. Tetravinylsilane plasma was used in the process of forming a thin film on the silicon wafer. The background of the spectrometer, the residual gases in the plasma reactor at basic pressure were characterized and the plasma polymerization process was monitored. This process was monitored with increasing effective power (2-150 W). The obtained mass spectra were assigned and described in detail.
This bachelor thesis deals with plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) and the use of mass spectrometry to monitor the processes in plasma during the deposition of thin film. Tetravinylsilane plasma was used in the process of forming a thin film on the silicon wafer. The background of the spectrometer, the residual gases in the plasma reactor at basic pressure were characterized and the plasma polymerization process was monitored. This process was monitored with increasing effective power (2-150 W). The obtained mass spectra were assigned and described in detail.
Description
Citation
MORAVANSKÝ, M. Organokřemičité plazma zkoumané hmotnostní spektrometrií [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta chemická. 2022.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
Chemie, technologie a vlastnosti materiálů
Comittee
doc. Ing. František Šoukal, Ph.D. (předseda)
prof. RNDr. Josef Jančář, CSc. (člen)
prof. Ing. Ladislav Omelka, DrSc. (člen)
prof. Ing. Petr Ptáček, Ph.D. (člen)
doc. Ing. Jaromír Wasserbauer, Ph.D. (člen)
doc. Ing. Lucy Vojtová, Ph.D. (člen)
Ing. Lukáš Tvrdík (člen)
Date of acceptance
2022-06-17
Defence
Student při obhajobě práce na téme Organokřemičité plazma zkoumané hmotnostní spektrometrií nejdříve komisi seznámil s cíly své práce, technologickým zařízením PECVD a použitým hmotnostním spektrometrem. V rámci představení výsledků se zabýval závislostí parciálního tlaku na efektivním výkonu. Po shrnutí výsledků byl student komisí vyzvám k odpovědím na otázky oponenta:
1) Jaký je rozdíl mezi odporem a impedancí 50 , uvádíte totiž odpor při RF generátoru?
2) Důkladně popište části hm. spektrometru na obr. 22 a jaký tyto části mají význam?
Po zodpovězení těchto otázek položila komise následující otázky:
1) Kde se v přístroji tvoří elektrony?
2) V čem je novost Vaší práce?
Na dané otázky student uspokojivě odpověděl.
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena