Plazmonické struktury vytvořené pomocí elektronové litografie

Abstract

Předkládaná práce se zabývá procesem tvorby plazmonických struktur pomocí elektronové litografie. Základním úkolem práce je vytvořit struktury publikované v NatureNanotechnology s použitím rezistu PMMA. Je vytvořeno několik variant motivů struktur s různými expozičními dávkami a tvary, aby bylo možné stanovit nejvýhodnější variantu. Z těchto variant je vyvozeno, které jsou nejefektivnější s použitím optického a elektronového mikroskopu. S těmito informacemi jsou vytvořeny a vyhodnoceny velkoplošné expozice.The presented study deals with the process of the formation of plasmonic structures using electron beam lithography. The main aim of this work is to create a structure published in NatureNanotechnology using PMMA resist. It has been created several variants of these structures with different exposure doses and shapes in order to determine the best option. From these variants it is concluded which one is the most effective by using optical and electron microscopy. With this information are created and evaluated large-scale exposure.