Plazmonické struktury vytvořené pomocí elektronové litografie
Loading...
Date
Authors
Šimík, Marcel
ORCID
Advisor
Referee
Mark
C
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstract
Předkládaná práce se zabývá procesem tvorby plazmonických struktur pomocí elektronové litografie. Základním úkolem práce je vytvořit struktury publikované v NatureNanotechnology s použitím rezistu PMMA. Je vytvořeno několik variant motivů struktur s různými expozičními dávkami a tvary, aby bylo možné stanovit nejvýhodnější variantu. Z těchto variant je vyvozeno, které jsou nejefektivnější s použitím optického a elektronového mikroskopu. S těmito informacemi jsou vytvořeny a vyhodnoceny velkoplošné expozice.
The presented study deals with the process of the formation of plasmonic structures using electron beam lithography. The main aim of this work is to create a structure published in NatureNanotechnology using PMMA resist. It has been created several variants of these structures with different exposure doses and shapes in order to determine the best option. From these variants it is concluded which one is the most effective by using optical and electron microscopy. With this information are created and evaluated large-scale exposure.
The presented study deals with the process of the formation of plasmonic structures using electron beam lithography. The main aim of this work is to create a structure published in NatureNanotechnology using PMMA resist. It has been created several variants of these structures with different exposure doses and shapes in order to determine the best option. From these variants it is concluded which one is the most effective by using optical and electron microscopy. With this information are created and evaluated large-scale exposure.
Description
Citation
ŠIMÍK, M. Plazmonické struktury vytvořené pomocí elektronové litografie [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2014.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
Mikroelektronika a technologie
Comittee
doc. Ing. Jiří Háze, Ph.D. (předseda)
doc. Ing. Radek Kuchta, Ph.D. (místopředseda)
Ing. Milan Šesták (člen)
doc. Ing. Josef Šandera, Ph.D. (člen)
Ing. Jiří Špinka (člen)
Date of acceptance
2014-06-17
Defence
Student seznámil státní zkušební komisi s cílem a řešením své bakalářské práce a zodpověděl otázky a připomínky oponenta. Dále student zodpověděl následující otázky: Zadání bylo řešeno na fakultě nebo mimo fakultu? Na ústavu přístrojové techniky. Vyšší rychlost depozice ve srovnání s čím? Student na otázku odpověděl, že celý proces naprašování je kratší než napařování. Co je myšleno zkratováním plazmonů? Student na otázku odpověděl, že je žádoucí pokovení pouze horních ploch a né boků. Co způsobuje? Student na otázku odpověděl, že cílem práce bylo vyrobit struktury.
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
Document licence
Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení