Příprava ultratenkých vrstev SiN

Simple item page
but.committeeprof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda) prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen) doc. RNDr. Josef Kuběna, CSc. (člen) prof. RNDr. Jiří Komrska, CSc. (člen) prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. Ing. Ivan Křupka, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen)cs
but.jazykčeština (Czech)
but.programAplikované vědy v inženýrstvícs
but.resultpráce byla úspěšně obhájenacs
dc.contributor.advisorMach, Jindřichcs
dc.contributor.authorDvořák, Martincs
dc.contributor.refereeVoborný, Stanislavcs
dc.date.created2011cs
dc.description.abstractTato bakalářská práce je zaměřena na realizaci, testování a kalibrování efuzní cely poskytující atomární svazky Si o termální energii (0,1 - 1 eV). Tyto svazku jsou užity k přípravě ultratenkých vrstev Si a SiN. Je zpracována rešeršní studie dosavadních poznatků o nitridu křemíku a jeho aplikaci v polovodičovém průmyslu. Dále byly provedeny první experimenty s depozicemi ultratenkých vrstev Si a SiN. Tyto vrstvy byly analyzovány metodami rentgenová fotoelektronová spektroskopie (XPS) a mikroskopie atomárních sil (AFM).cs
dc.description.abstractThis bachelor´s thesis deals with design, testing and calibration of an effussion cell generating silicon atomic beam having thermal energy (0,1 - 1 eV). These beams are used for the preparation of Si and SiN ultrathin films. Silicon nitride and its applications in semiconductor industry are reviewed. First experiments with deposition of ultrathin films of Si and SiN are described. These layers have been analyzed by x-ray photoelectron spektroscopy (XPS) and atomic force microscopy (AFM).en
dc.description.markBcs
dc.identifier.citationDVOŘÁK, M. Příprava ultratenkých vrstev SiN [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2011.cs
dc.identifier.other38696cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/1201
dc.language.isocscs
dc.publisherVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrstvícs
dc.rightsStandardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezenícs
dc.subjectSiNcs
dc.subjectrůst ultratenkých vrstevcs
dc.subjectefuzní celacs
dc.subjectUHVcs
dc.subjectMBEcs
dc.subjectSiNen
dc.subjectgrowth ultra thin layersen
dc.subjecteffusion cellen
dc.subjectUHVen
dc.subjectMBEen
dc.titlePříprava ultratenkých vrstev SiNcs
dc.title.alternativePreparation of SiN ultrathin filmsen
dc.typeTextcs
dc.type.driverbachelorThesisen
dc.type.evskpbakalářská prácecs
dcterms.dateAccepted2011-06-21cs
dcterms.modified2011-07-16-10:45:09cs
eprints.affiliatedInstitution.facultyFakulta strojního inženýrstvícs
sync.item.dbid38696en
sync.item.dbtypeZPen
sync.item.insts2025.03.26 00:15:09en
sync.item.modts2025.01.17 13:43:07en
thesis.disciplineFyzikální inženýrství a nanotechnologiecs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav fyzikálního inženýrstvícs
thesis.levelBakalářskýcs
thesis.nameBc.cs
Files
Original bundle
Now showing 1 - 3 of 3
Thumbnail Image
Name:
final-thesis.pdf
Size:
1.79 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
final-thesis.pdf
Download
Thumbnail Image
Name:
appendix-1.rar
Size:
126.74 KB
Format:
Unknown data format
Description:
appendix-1.rar
Download
Thumbnail Image
Name:
review_38696.html
Size:
10.08 KB
Format:
Hypertext Markup Language
Description:
file review_38696.html
Download
Collections
2011