but.committee	prof. Ing. Radimír Vrba, CSc. (předseda) Ing. Petr Kosina, Ph.D. (místopředseda) Ing. Jiří Starý, Ph.D. (člen) Ing. Jana Pekárková, Ph.D. (člen) Ing. Jan Prášek, Ph.D. (člen)	cs
but.defence	Student seznámil státní zkušební komisi s řešením své bakalářské práce a zodpověděl otázky a připomínky oponenta. Dále student odpovídal na otázky komise, zejména ohledně měření na elektronovém litografu.	cs
but.jazyk	čeština (Czech)
but.program	Elektrotechnika, elektronika, komunikační a řídicí technika	cs
but.result	práce byla úspěšně obhájena	cs
dc.contributor.advisor	Krátký, Stanislav	cs
dc.contributor.author	Šuľan, Dušan	cs
dc.contributor.referee	Horáček,, Miroslav	cs
dc.date.accessioned	2019-05-17T14:23:44Z
dc.date.available	2019-05-17T14:23:44Z
dc.date.created	2014	cs
dc.description.abstract	Předkládaná práce se zabývá procesem tvorby struktur pomocí elektronové litografie. Základním zaměřením práce je stanovení křivek citlivosti rezistu PMMA pro elektronový litograf Vistec EBPG 5000+ ES. Křivky citlivosti jsou stanoveny pro různé vývojky, doby vyvolávání a hloubky rezistu. Z těchto křivek jsou poté určeny citlivosti a kontrasty pro danou soustavu rezist-vývojka. Následně jsou křivky citlivosti aplikovány na korekce proximity efektu u reálných struktur, konkrétně u difrakčních periodických mřížek a potom vyhodnoceny.	cs
dc.description.abstract	This work deals with technological process of structures creating by using of electron beam lithography. The main focus of the work is contrast curves of PMMA resist determination for electron beam lithography system Vistec EBPG 5000+ ES. Contrast curves are determined for different developers, developing times and the depths of resist. Sensitivity and the contrast of resist are determined from these contrast curves for each resist-developer system. Sensitivity curves are applied to the proximity effect correction on real structures, specifically the periodic diffraction gratings and then they are evaluated.	en
dc.description.mark	B	cs
dc.identifier.citation	ŠUĽAN, D. Stanovení křivek citlivosti pro litograf s gaussovským svazkem [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2014.	cs
dc.identifier.other	74215	cs
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11012/33956
dc.language.iso	cs	cs
dc.publisher	Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií	cs
dc.rights	Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení	cs
dc.subject	Elektronová litografie	cs
dc.subject	elektronový litograf	cs
dc.subject	křivka citlivosti rezistu	cs
dc.subject	PMMA.	cs
dc.subject	Electron-beam lithography	en
dc.subject	Electron-beam writer	en
dc.subject	resist contrast curve	en
dc.subject	PMMA	en
dc.title	Stanovení křivek citlivosti pro litograf s gaussovským svazkem	cs
dc.title.alternative	The contrast curves determination for e-beam writer with Gaussian beam	en
dc.type	Text	cs
dc.type.driver	bachelorThesis	en
dc.type.evskp	bakalářská práce	cs
dcterms.dateAccepted	2014-06-17	cs
dcterms.modified	2014-06-19-08:27:34	cs
eprints.affiliatedInstitution.faculty	Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií	cs
sync.item.dbid	74215	en
sync.item.dbtype	ZP	en
sync.item.insts	2021.11.22 22:58:24	en
sync.item.modts	2021.11.22 22:39:23	en
thesis.discipline	Mikroelektronika a technologie	cs
thesis.grantor	Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. Ústav mikroelektroniky	cs
thesis.level	Bakalářský	cs
thesis.name	Bc.	cs

Stanovení křivek citlivosti pro litograf s gaussovským svazkem

Files

Original bundle

Collections