Příprava trojvrstev Ag/Co/Ag
| but.committee | prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda) prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen) doc. RNDr. Josef Kuběna, CSc. (člen) prof. RNDr. Jiří Komrska, CSc. (člen) prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. Ing. Ivan Křupka, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen) | cs |
| but.defence | cs | |
| but.jazyk | čeština (Czech) | |
| but.program | Aplikované vědy v inženýrství | cs |
| but.result | práce byla úspěšně obhájena | cs |
| dc.contributor.advisor | Čechal, Jan | cs |
| dc.contributor.author | Burda, Pavel | cs |
| dc.contributor.referee | Kolíbal, Miroslav | cs |
| dc.date.accessioned | 2019-05-17T12:15:03Z | |
| dc.date.available | 2019-05-17T12:15:03Z | |
| dc.date.created | 2010 | cs |
| dc.description.abstract | Bakalářská práce je věnována přípravě a studiu ultratenkých vrstev stříbra a kobaltu. Z těchto materiálů jsou tvořeny vrstvy na křemíkových substrátech. Substráty tvoří povrchově upravený krystalický křemík (SiO2/Si(111), Si(111) ?H, Si(111) 7×7) a amorfní SiO2 ve formě křemenného skla. Růst vrstev je prováděn pomocí epitaxe molekulárním svazkem (MBE) za využití efuzní cely. Na vzorek připravený z uvedených substrátů je postupně deponována vrstva stříbra, poté kobaltu a stříbra. Tloušťka každé vrstvy je 6 nm. Vrstvy jsou studovány užitím metod rentgenové fotoelektronové spektroskopie (XPS) a mikroskopie atomárních sil (AFM). Typ růstu vrstvy se zásadně liší u různých povrchových úprav substrátu. Výsledkem jsou připravené trojvrstvy Ag/Co/Ag na SiO2/Si(111) a Si(111) 7×7, které lze využít v oblasti plazmoniky a lze magnetickým polem ovlivnit chování povrchových plazmonových polaritonů. | cs |
| dc.description.abstract | The Bachelor's thesis is aimed to the preparation of silver and cobalt ultrathin films. The films are formed on modified surfaces of crystalline silicon substrates (SiO2/Si(111), Si(111) ?H, Si(111) 7×7) and amorphous SiO2 in a form of a quartz glass. Thin films are grown using an effusion cell for Molecular Beam Epitaxy (MBE). Surface modified surfaces are covered subsequently by a silver, cobalt and silver thin layer. The individual film thickness is 6 nm. Consequently the samples are studied by the X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) and the Atomic Force Microscopy (AFM). The morphology of thin films and growth modes are compared among the substrates. Growth modes change with the surface modification type. Complete trilayer system Ag/Co/Ag was prepared on SiO2/Si(111) and Si(111) 7×7. Such system can be employed in plasmonics in order to allow the control of surface plasmon polariton properties by an external magnetic field. | en |
| dc.description.mark | A | cs |
| dc.identifier.citation | BURDA, P. Příprava trojvrstev Ag/Co/Ag [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2010. | cs |
| dc.identifier.other | 29511 | cs |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11012/14113 | |
| dc.language.iso | cs | cs |
| dc.publisher | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství | cs |
| dc.rights | Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení | cs |
| dc.subject | stříbro | cs |
| dc.subject | kobalt | cs |
| dc.subject | křemík | cs |
| dc.subject | růst tenkých vrstev | cs |
| dc.subject | trojvrstva | cs |
| dc.subject | Ag | cs |
| dc.subject | Si | cs |
| dc.subject | SiO2 | cs |
| dc.subject | MBE | cs |
| dc.subject | AFM | cs |
| dc.subject | XPS | cs |
| dc.subject | silver | en |
| dc.subject | cobalt | en |
| dc.subject | silicon | en |
| dc.subject | thin film growth | en |
| dc.subject | trilayer | en |
| dc.subject | Ag | en |
| dc.subject | Si | en |
| dc.subject | SiO2 | en |
| dc.subject | MBE | en |
| dc.subject | AFM | en |
| dc.subject | XPS | en |
| dc.title | Příprava trojvrstev Ag/Co/Ag | cs |
| dc.title.alternative | Preparation of Ag/Co/Ag Trilayers | en |
| dc.type | Text | cs |
| dc.type.driver | bachelorThesis | en |
| dc.type.evskp | bakalářská práce | cs |
| dcterms.dateAccepted | 2010-06-17 | cs |
| dcterms.modified | 2010-07-13-11:45:04 | cs |
| eprints.affiliatedInstitution.faculty | Fakulta strojního inženýrství | cs |
| sync.item.dbid | 29511 | en |
| sync.item.dbtype | ZP | en |
| sync.item.insts | 2021.11.12 22:07:07 | en |
| sync.item.modts | 2021.11.12 21:16:51 | en |
| thesis.discipline | Fyzikální inženýrství a nanotechnologie | cs |
| thesis.grantor | Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav fyzikálního inženýrství | cs |
| thesis.level | Bakalářský | cs |
| thesis.name | Bc. | cs |