but.committee	prof. Ing. Vladislav Musil, CSc. (předseda) prof. Ing. Jaroslav Boušek, CSc. (člen) doc. Ing. Lukáš Fujcik, Ph.D. (člen) doc. RNDr. Petr Mikulík, Ph.D. - oponent (člen) Ing. Marek Škereň, Ph.D. - oponent (člen) Ing. Miroslav Horáček, Ph.D. (člen)	cs
but.defence	Uchazeč seznámil s výsledky své disertační práce. Na dotazy odpovídal pohotově a správně. Obhajoba měla vynikající úroveň.	cs
but.jazyk	čeština (Czech)
but.program	Elektrotechnika a komunikační technologie	cs
but.result	práce byla úspěšně obhájena	cs
dc.contributor.advisor	Kolařík, Vladimír	cs
dc.contributor.author	Krátký, Stanislav	cs
dc.contributor.referee	Mikulík, Petr	cs
dc.contributor.referee	Škereň,, Marek	cs
dc.date.created	2021	cs
dc.description.abstract	Tato práce se zabývá reliéfní elektronovou litografií a přípravou difrakčních optických elementů. Řešena jsou tři témata. Prvním tématem je reliéfní kombinovaná elektronová litografie, kde je cílem zkombinovat expozice dvou systémů s rozdílnou energií elektronů primárního svazku. Kombinovaná technika vede k efektivnějšímu využití jednotlivých systémů, kdy se různé struktury lépe připravují jinými energiemi elektronů v primárním svazku. Dalším tématem je optimalizace hranic objektů exponovaných struktur, které jsou definovány obrazovými vstupy. Zkoumá se vliv této optimalizace na rychlost přípravy expozičních dat, na dobu expozice a na optickou odezvu testovaných struktur. Třetím tématem je zkoumání možností přípravy hlubokých víceúrovňových difrakčních optických elementů do bloků plexiskla, jako náhrada soustavy rezist/substrát. S tím se pojí nový způsob zápisu, který minimalizuje teplotní zátěž na plexisklo během expozice elektronovým svazkem a zároveň zvyšuje homogenitu výsledného motivu. V této části byla dále navržena metoda výpočtu expozičních dávek specifických víceúrovňových struktur vycházející z existujících modelů pro výpočet korekcí jevu blízkosti, která minimalizuje čas výpočtu expozičních dávek.	cs
dc.description.abstract	This thesis deals with grayscale e-beam lithography and diffractive optical elements fabrication. Three topics are addressed. The first topic is combined grayscale e-beam lithography. The goal of this task is combining exposures performed by two systems with various beam energies. This combined technique leads to a better usage of both systems because various structures can be more easily prepared by one electron beam energy than by the other. The next topic is the optimization of shape borders of exposing structures that are defined by image input. The influence of such optimization on exposure data preparation is evaluated, as well as the exposure time and the change of optical properties of testing structures. The possibility of deep multilevel diffractive optical element fabrication in plexiglass blocks is researched as the third topic. Plexiglass can replace the system of a resist and a substrate. A new approach to writing down the structures by electron beam is presented, minimizing thermal stress on the plexiglass block during the exposure. The writing method also improves the homogeneity of exposed motifs. A method for computing the exposure dose for specific multilevel structures was designed. This method is based on the existing model of proximity effect computation and it minimizes the computing time necessary to obtain the exposure doses.	en
dc.description.mark	P	cs
dc.identifier.citation	KRÁTKÝ, S. Kombinovaná elektronová litografie [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2021.	cs
dc.identifier.other	129408	cs
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11012/196542
dc.language.iso	cs	cs
dc.publisher	Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií	cs
dc.rights	Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení	cs
dc.subject	Reliéfní elektronová litografie	cs
dc.subject	hybridní litografie	cs
dc.subject	difrakční optické elementy	cs
dc.subject	optimalizace datové přípravy	cs
dc.subject	proximity efekt	cs
dc.subject	PMMA	cs
dc.subject	plexisklo.	cs
dc.subject	Grayscale e-beam lithography	en
dc.subject	hybrid lithography	en
dc.subject	diffractive optical elements	en
dc.subject	optimization of data preparation	en
dc.subject	proximity effect	en
dc.subject	PMMA	en
dc.subject	plexiglass.	en
dc.title	Kombinovaná elektronová litografie	cs
dc.title.alternative	Combined Electron Beam Lithography	en
dc.type	Text	cs
dc.type.driver	doctoralThesis	en
dc.type.evskp	dizertační práce	cs
dcterms.dateAccepted	2021-04-20	cs
dcterms.modified	2021-04-22-10:29:33	cs
eprints.affiliatedInstitution.faculty	Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií	cs
sync.item.dbid	129408	en
sync.item.dbtype	ZP	en
sync.item.insts	2025.03.27 12:10:14	en
sync.item.modts	2025.01.15 12:33:51	en
thesis.discipline	Mikroelektronika a technologie	cs
thesis.grantor	Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. Ústav mikroelektroniky	cs
thesis.level	Doktorský	cs
thesis.name	Ph.D.	cs

Kombinovaná elektronová litografie

Files

Original bundle

Collections