Studium růstu metastabilních tenkých vrstev fcc Fe na Cu/Si(100) substrátech

but.committeeprof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda) prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda) prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen) prof. RNDr. Jiří Komrska, CSc. (člen) prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen) prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen) prof. Ing. Ivan Křupka, Ph.D. (člen) prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen) RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen) prof. RNDr. Eduard Schmidt, CSc. (člen)cs
but.jazykčeština (Czech)
but.programAplikované vědy v inženýrstvícs
but.resultpráce byla úspěšně obhájenacs
dc.contributor.advisorUrbánek, Michalcs
dc.contributor.authorHorký, Michalcs
dc.contributor.refereeCháb, Vladimírcs
dc.date.created2016cs
dc.description.abstractTato diplomová práce se zabývá přípravou epitaxně narostlých metastabilních paramagnetických vrstev Fe legovaných Ni na Cu/Si(100) substrátech za RT. Na povrch H-Si(100) bez nativního SiO2, který byl odstraněn leptáním v roztoku HF, anebo termální úpravou, byla pomocí molekulární svazkové epitaxe (MBE) provedena depozice Cu(100). Pravidelně uspořádané vrstvy mědi o tloušťce od 50 nm do 130 nm pak sloužily jako vhodný substrát pro depozici 44 ML paramagnetického Fe78Ni. Růst vrstev železa probíhal v CO atmosféře umožňující společně s niklem stabilizaci paramagnetických vrstev. Povrch požadovaných Fe-Ni struktur byl poté pomocí dopadu svazku iontů strukturně transformován a vlastnosti těchto ozářených vrstev byly poté charakterizovány pomocí MOKE. Dále pak byly elektronovou litografií na Si(100) vyrobeny specifické vzory, které po odstranění oxidu sloužily jako vhodná matrice pro tvorbu měděné mezivrtvy a pak i paramagnetického Fe78Ni22. Připravený Si(100), globálně i lokálně narostlé kovové vrstvy byly zkoumány pomocí technik LEED, XPS, AFM, AES, SEM a STM. Zaznamenané výsledky dokazují možnost přípravy paramagnetických vrstev na H-Si(100), na kterých lze po ozáření specifickou dávkou iontů vytvořit libovolné feromagnetické vzory na paramagnetickém pozadí.cs
dc.description.abstractThis diploma thesis deals with the preparation of epitaxially grown metastable paramagnetic Fe films alloyed by Ni on Cu/Si(100) substrates at RT. Molecular beam epitaxy of Cu(100) buffer layer was performed on H-Si(100) native SiO2 free samples treated by etching in HF or thermal treatment. The epitaxially grown Cu layers with thickness ranging from 50 up to 130 nm serves as suitable substrate for the deposition of 44-ML-thick paramagnetic Fe78Ni22. The film growth was taking place in CO atmosphere and as well as Ni it led to paramagnetic film stabilization. The structural and magnetic ion-beam-induced transformation of desired Fe-Ni structure was performed and propeties of irradiated films were characterized afterwards by MOKE. Then some specific patterns on Si(100) by e-beam litography were fabricated and they served as suitable matrix for Cu(100) buffer layer and paramagnetic Fe. Prepared Si(100), globally and locally deposited metal films were examined by LEED, XPS, AFM, AES, SEM a STM. The recorded results showed the possibility of paramagnetic films preparation on H-Si(100) where it was possible to make ferromagnetic patterns on paramagnetic background by irradiation of specific ion dose.en
dc.description.markAcs
dc.identifier.citationHORKÝ, M. Studium růstu metastabilních tenkých vrstev fcc Fe na Cu/Si(100) substrátech [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2016.cs
dc.identifier.other91759cs
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11012/60828
dc.language.isocscs
dc.publisherVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrstvícs
dc.rightsStandardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezenícs
dc.subjectmetastabilní vrstvycs
dc.subjecttransformacecs
dc.subjectkřemíkcs
dc.subjectkrystalická strukturacs
dc.subjectměďcs
dc.subjectfokusovaný iontový svazekcs
dc.subjectmetastable filmsen
dc.subjecttransformationen
dc.subjectsiliconen
dc.subjectcrystal structureen
dc.subjectcopperen
dc.subjectfocused ion beamen
dc.titleStudium růstu metastabilních tenkých vrstev fcc Fe na Cu/Si(100) substrátechcs
dc.title.alternativeGrowth of metastable fcc Fe thin films on Cu/Si(100) substratesen
dc.typeTextcs
dc.type.drivermasterThesisen
dc.type.evskpdiplomová prácecs
dcterms.dateAccepted2016-06-20cs
dcterms.modified2016-06-23-09:47:29cs
eprints.affiliatedInstitution.facultyFakulta strojního inženýrstvícs
sync.item.dbid91759en
sync.item.dbtypeZPen
sync.item.insts2025.03.27 08:02:38en
sync.item.modts2025.01.15 16:48:47en
thesis.disciplineFyzikální inženýrství a nanotechnologiecs
thesis.grantorVysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav fyzikálního inženýrstvícs
thesis.levelInženýrskýcs
thesis.nameIng.cs
Files
Original bundle
Now showing 1 - 2 of 2
Loading...
Thumbnail Image
Name:
final-thesis.pdf
Size:
9.86 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
final-thesis.pdf
Loading...
Thumbnail Image
Name:
review_91759.html
Size:
10.32 KB
Format:
Hypertext Markup Language
Description:
file review_91759.html
Collections