Depozice Ga a GaN nanostruktur na křemíkový a grafenový substrát

Abstract

Tato diplomová práce se zabývá studiem vlastností Ga a GaN nanostruktur na grafenu. Teoretická část této práce popisuje základní vlastnosti grafenu a GaN a problematiku jejich výroby s důrazem na důležitost Ga a GaN pro grafen. Experimentální část této práce se zabývá depozicemi Ga na grafen, který je připravený metodou CVD a přenesen na SiO2. Tyto vzorky jsou studovány pomocí různých metod (XPS, AFM, SEM, Ramanova spektroskopie, EDX). Vlastnosti Ga na povrchu grafenu jsou diskutovány, zejména z hlediska povrchově zesíleného ramanova jevu (SERS). Následně jsou provedeny depozice Ga na exfoliovaný grafen a na grafen na měděné folii. GaN je připraven pomocí nitridace galliových struktur na grafenu. Tento děj je podrobně studován analýzou XPS měření výrazného Ga píku a valenčního pásu grafenu v průběho tohoto děje.Presented thesis is focused on the study of properties of Ga and GaN nanostructures on graphene. In the theoretical part of the thesis a problematics of graphene and GaN fabrication is discussed with a focus on the relation of Ga and GaN to graphene. The experimental part of the thesis deals with the depositions of Ga on transferred CVD-graphene on SiO2. The samples are analyzed by various methods (XPS, AFM, SEM, Raman spectroscopy, EDX). The properties of Ga on graphene are discussed with a focus on the surface enhanced Raman scattering effect. Furthermore, a deposition of Ga on exfoliated graphene and on graphene on a copper foil is described. GaN is fabricated by nitridation of the Ga structures on graphene. This process is illustrated by the XPS measurements of a distinct Ga peak and the graphene valence band during the process of nitridation.