Struktura a vlastnosti povlaků připravovaných PVD technologií

Abstract

Předkládaná práce je zaměřena na studium DLC vrstev 3. generace vyráběné firmou Platit a.s. Vrstvy jsou deponovány během nereaktivního filtrovaného PVD obloukového procesu. Cílem je zjistit vliv záměny držáku substrátu s různým odvodem tepla na výsledné vlastnosti vrstev. Záměna je motivována čistě ekonomickou snahou o zvýšení produktivity procesu. Teoretická část pojednává o principech procesu PVD depozice, charakteristice tenkých vrstev, DLC vrstvách a materiálech pro řezné nástroje. Experimentální část práce zahrnuje popis přístrojů a metod použitých pro analýzu vzorků. Její součástí je také stručný popis průběhu a podmínek každého experimentu. Získané výsledky ať už z hlediska tloušťky vrstev, adheze nebo podílu sp^3 vazeb odpovídají předpokládaným výsledkům.The submitted work is focused on study of 3rd generation DLC films produced by Platit a.s. company. Thin films are deposited utilizing filtered cathodic vacuum arc process (FCVA). The main goal of thesis was to find out the influence on film properties, caused by change of the substrate holders with different heat dissipation. The change of the substrate holders is motivated purely by economical effort to increase productivity of the deposition process. Teoretical part of the thesis is about the principles of PVD deposition process, characterization of the thin films, DLC thin films and materials used for cutting tools. Experimental part includes description of devices used for specimens analyses, including also the description of measuring process and used conditions. Acquiered results, not only the thin film thickness, adhesion or amount of sp^3 bonds, match with expected results.