Výroba a charakterizace plazmonických nanostruktur

Abstract

Předkládaná bakalářská práce se zabývá přípravou a charakterizací plazmonických nanostruktur. Pro přípravu těchto struktur byl použit grafen na dopovaném křemíkovém substrátu s 285nm vrstvou oxidu křemičitého. Grafenové pruhy o šířce řádově stovek nanometrů byly vyrobeny za použití metod elektronové litografie (EBL) a reaktivního iontového leptání (RIE). Jednotlivé fáze přípravy byly monitorovány pomocí optické mikroskopie a mikroskopie atomárních sil (AFM). Vlastnosti výsledných grafenových nanostruktur byly charakterizovány rastrovacím elektronovým mikroskopem (SEM) a infračerveným spektrometrem s Fourierovou transformací (FTIR).This bachelor thesis deals with fabrication and characterization of plasmonic nanostructures. Graphene on a doped silicon substrate with a 285 nm thick layer of silicon dioxide was used for fabrication of these structures. Graphene ribbons with width in the order of hundreds of nanometers were prepared using electron beam lithography (EBL) and reactive ion etching (RIE). Steps in fabrication process were monitored utilizing optical and atomic force microscopy (AFM). Prepared graphene nanostructures were characterized with scanning electron microscope (SEM) and Fourier transform infrared spectrometer (FTIR).