Depozice pomocí fokusovaného elektronového svazku

Abstract

V rámci této práce byla provedena série depozic pomocí fokusovaného elektronového svazku z trimethyl(methylcyklopentadienyl)platičitého komplexu v prostředí vodních par. Byla sledována závislost čistoty připravených materiálů na urychlovacím napětí svazku a tlaku vodních par. Bylo dosaženo maximálního obsahu platiny (27,2 ± 0,4) at. % (při urychlovacím napětí 5 kV, proudu svazku 1600 pA a tlaku vodních par 100 Pa). Po následném dlouhodobém vystavení atmosférickým vlivům (světlu, vzdušné vlhkosti a kyslíku) tato hodnota vzrostla až na konečných (39,2 ± 2,1) at. %.Within this work, a set of depositions induced by focused electron beam was prepared. The depositions were prepared in the presence of water vapours from trimethyl(methylcyclopentadienyl)platinum(IV) precursor. The dependence of prepared materials purity on beam accelerating voltage and water vapour pressure was measured. The best platinum content was achieved at (27,2 ± 0,4) at. %, with beam accelerating voltage 5 kV, beam current 1600 pA and water vapour pressure 100 Pa. Due to subsequent long-term exposure to light, air humidity and air oxygen, the platinum content was increased to (39,2 ± 2,1) at. %.