Příprava a charakterizace epitaxních tenkých vrstev NiO a jejich antiferomagnetických domén

Abstract

Antiferomagnetické materiály získaly v posledních letech velkou pozornost díky svému uplatnění ve spintronice. NiO je dobře známý antiferomagnet a jeho Néelova teplota je nad pokojovou teplotou. Díky tomu je ideálním systémem pro studium antiferomagnetických domén. Pomocí reaktivního magnetronového naprašování jsme připravili tenké epitaxní vrstvy NiO na substrátech MgO (001) a safír (0001). Studovali jsme vliv jak substrátu tak depozičních parametrů na výslednou krystalovou a magnetickou strukturu. Použili jsme zobrazování pomocí magneto-optického dvojlomu, které slouží jako přístupnější alternativa k lineárnímu rentgenovému dichroismu pro pozorování T domén. Sestavili jsme laserovou soustavu a pomocí ní provedli experimenty zaměřené na optickou kontrolu antiferomagnetických domén.Antiferromagnets have gained a lot of interest in recent years due to their spintronic applications. NiO is a well-known antiferromagnetic material. Its Néel temperature above room temperature makes it an ideal candidate for study of antiferromagnetic domains. Using reactive magnetron sputtering, NiO thin films are epitaxially grown on MgO (001) and sapphire (0001) substrates under different conditions to study the impact on crystal and antiferromagnetic domain structures. Magneto-optical birefringence imaging is used to observe T (twin) domains, providing an accessible alternative to X-ray linear magnetic dichroism. We developed a laser setup to perform all-optical control of antiferromagnetic domains