Volná povrchová energie plazmových polymerů

Abstract

Tato práce se zabývá studiem změn volné povrchové energie organokřemičitých plasmových polymerů na základě jejich rozdílných depozičních podmínek. Výpočet volné povrchové energie byl proveden pomocí Owens-Wendt-Kaelble, Wu a acido-bazické teorie. K měření kontaktních úhlů bylo použito čtyř různých testovacích kapalin (voda, formamid, dijodmethan a glycerol). Pro tenké vrstvy plasmového tetravinylsilanu připraveného s efektvním výkonem 2, 10, 25, 70 a 150 W byla naměřená volná povrchová energie mírně vzrůstající.Changes of free surface energy of organosilicon plasma polymers according to their different deposition conditions were studied in this thesis. The free surface energy was evaluated using the Owens-Wendt-Kaelble, Wu and acid-base theory. Four different test liquids were used to determine contact angles (water, form amide, diiodomethane and glycerol). Measuring tetravinylsilane thin films with effective power of 2, 10, 25, 70 and 150 W showed a slightly increasing surface free energy.