Příprava grafenu metodou CVD

Abstract

Tato diplomová práce je převážně zaměřena na výrobu grafenových vrstev na měděné fólii metodou chemické depozice z plynné fáze (Chemical Vapour Deposition – CVD). Za tímto účelem byla dokončena a plně automatizována vysokoteplotní komora pro výrobu grafenu. Experimentálně bylo dosaženo výroby velkých ploch grafenu na měděné fólii. Provedené měření Ramanovým mikroskopem a rentgenovou fotoelektronovou spektroskopií dokázalo, že se jedná převážně o jednu vrstvu grafenu. Grafenová vrstva byla rovněž přenesena na nevodivý substrát.This diploma thesis is mainly focused on the fabrication of graphene layers on the copper foil by the Chemical Vapor Deposition (CVD). For this purpose the high-temperature chamber for the production of the graphene was completed and fully automated. The production of the high area graphene on the copper foil was experimentally achieved. The Raman microscopy and X-ray photoelectron spectroscopy measurements proved that the produced graphene is mostly a monolayer. Graphene layer was transferred on non-conductive substrate.