Příprava grafenu metodou CVD
Loading...
Date
Authors
Procházka, Pavel
ORCID
Advisor
Referee
Mark
A
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
Abstract
Tato diplomová práce je převážně zaměřena na výrobu grafenových vrstev na měděné fólii metodou chemické depozice z plynné fáze (Chemical Vapour Deposition – CVD). Za tímto účelem byla dokončena a plně automatizována vysokoteplotní komora pro výrobu grafenu. Experimentálně bylo dosaženo výroby velkých ploch grafenu na měděné fólii. Provedené měření Ramanovým mikroskopem a rentgenovou fotoelektronovou spektroskopií dokázalo, že se jedná převážně o jednu vrstvu grafenu. Grafenová vrstva byla rovněž přenesena na nevodivý substrát.
This diploma thesis is mainly focused on the fabrication of graphene layers on the copper foil by the Chemical Vapor Deposition (CVD). For this purpose the high-temperature chamber for the production of the graphene was completed and fully automated. The production of the high area graphene on the copper foil was experimentally achieved. The Raman microscopy and X-ray photoelectron spectroscopy measurements proved that the produced graphene is mostly a monolayer. Graphene layer was transferred on non-conductive substrate.
This diploma thesis is mainly focused on the fabrication of graphene layers on the copper foil by the Chemical Vapor Deposition (CVD). For this purpose the high-temperature chamber for the production of the graphene was completed and fully automated. The production of the high area graphene on the copper foil was experimentally achieved. The Raman microscopy and X-ray photoelectron spectroscopy measurements proved that the produced graphene is mostly a monolayer. Graphene layer was transferred on non-conductive substrate.
Description
Citation
PROCHÁZKA, P. Příprava grafenu metodou CVD [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. 2012.
Document type
Document version
Date of access to the full text
Language of document
cs
Study field
Fyzikální inženýrství a nanotechnologie
Comittee
prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (předseda)
prof. RNDr. Miroslav Liška, DrSc. (místopředseda)
prof. RNDr. Bohumila Lencová, CSc. (člen)
prof. RNDr. Jiří Komrska, CSc. (člen)
prof. RNDr. Petr Dub, CSc. (člen)
prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. (člen)
prof. RNDr. Jiří Spousta, Ph.D. (člen)
prof. Ing. Ivan Křupka, Ph.D. (člen)
prof. RNDr. Pavel Zemánek, Ph.D. (člen)
RNDr. Antonín Fejfar, CSc. (člen)
Date of acceptance
2012-06-18
Defence
Result of defence
práce byla úspěšně obhájena
Document licence
Standardní licenční smlouva - přístup k plnému textu bez omezení