Studium růstu ultratenkých vrstev Au

Abstract

Obsahem této práce je studium růstu ultratenkých vrstev zlata. Vrstvy byly připraveny metodou molekolární svazkové epitaxe (Molecular beam epitaxy - MBE) v podmínkách ultravysokého vakua na různě modifikované křemíkové substráty za různých teplot. Následná analýza získaných vzorků byla zaměřena na zjištění tloušťky vrstev (ToF - LEIS) , morfologii (SEM, AFM) a chemické složení vzniklého povrchu (XPS). Vyhodnocení naměřených dat přispívá k popisu a porozumění některým procesům, probíhajícím při depozici zlata a po následném vystavení již hotového vzorku vzorku vysokým teplotám. Dosažené výsledky zároveň poskytují východisko dalším experimentům a potenciálním aplikacím.The aim of this thesis is to study growth of ultrathin gold layers prepared by MBE (Molecular beam epitaxy) in UHV conditions. Differently modified sillicon served as a substrate and depositions were done at different temperatures of a substrate. Samples were analyzed by ToF LEIS for thickness, morfology was examined by SEM and AFM. X-ray photoelectron spectra were taken for chemical analysis. Gathered data together with their evaluation contribute to description and understanding of some processes during deposition and subsequent exposure of the sample to high temperatures. Experimental data and conslusions also prowide basis for further experiments and development of potential applications.