Chemická pasivace povrchu křemíkových desek pro solární články

Abstract

Táto diplomová práca sa zaoberá skúmaním rôznych druhov roztokov pre chemickú pasiváciu kremíkového povrchu na testovacie účely kremíkových rezov s ich následným porovnaním. Hlavnou úlohou práce je nájsť optimálny roztok, ktorý vyhovuje požiadavkám časovej stability a rýchlosti nábehu pasivačných schopností roztoku, reprodukovatežnosti merania a možnosti dokonalého oplachu zbytkov pasivačného roztoku z kremíkového povrchu, aby po opätovnom vrátení kremíkovej dosky do výrobného procesu nedochádzalo k zhoršeniu vlastností meranej kremíkovej dosky a kontaminácii celej série vyrábaných solárnych článkov, pričom oplachovacia metóda po chemickej pasivácii je takisto predmetom skúmania.This master´s thesis deals with an examination of different solution types a for the chemical passivation of a silicon surface. Various solutions are tested on silicon wafers for their consequent comparison. The main purpose of this work is to find optimal solution, which suits the requirements of a time stability and start-up velocity of passivation, reproducibility of the measurements and a possibility of a perfect cleaning of a passivating solution remainig from a silicon surface, so that the parameters of a measured silicon wafer will not worsen and there will not be any contamination of the other wafers series in the production after a repetitive return of the measured wafer into the production process. The cleaning process itself is also a subject of a development.