Příprava a optické vlastnosti tenkých vrstev a vrstevnatých struktur pomocí plazmochemické depozice

Abstract

Diplomová práce je v teoretické části zaměřena na popis principu spektroskopické elipsometrie a tvorbu tenkých vrstev metodou plazmochemické depozice z plynné fáze (PECVD). V experimentální části je popsán depoziční systém, elipsometr a vyhodnocení změřených dat, materiály použité pro přípravu vzorků a průběh výroby vzorků. Byly připravovány jak jednoduché tak vícevrstvé struktury polymerních materiálů. Výsledky práce neprokázaly závislost optických vlastností materiálu na tloušťce vrstvy. Jsou zde popsány vlivy efektivního výkonu a depozičních směsí plynů na optické vlastnosti vrstev.Thesis in theoretical part is focused on the principle of spectroscopic ellipsometry and formation of thin films by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD). In the experimental part we describe the deposition system, ellipsometer and mathematical evaluation of ellipsometric data, materials used for film formation and processing of the samples. Single-layer and multilayer structures of polymeric materials were prepared. We revealed that the optical properties of thin films are independent of film thickness. We also described the effect of the effective power and deposition gas mixture on optical properties of thin films.