DALLAEV, R. Alternativní přístupy přípravy tenké vrstvy nitridu hliníku pomocí metody depozice atomárních vrstev [online]. Brno: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií. 2021.
Mgr. et Mgr. Rashid Dallaev absolvoval v roce 2013 magisterské studium na Dagestánské Státní Univerzitě v oboru Organická chemie a o dva roky později magisterské studium v oboru Analytická chemie na téže univerzitě. Ještě v témže roce nastoupil k doktorskému studiu na obor Fyzikální pevných látek na téže univerzitě, aby v roce 2017 přišel na Ústavu fyziky Fakulty elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně na doktorské studium. V rámci své práce se doktorand zabýval přípravou vrstev nitridu hliníku pomocí metody depozice atomárních vrstev. Doktorand aplikoval řadu přístupů s využitím různých prekurzorů a substrátů při rozličných depozičních režimech ALD. Charakterizace připravených vzorků ukazuje, že optimalizace technologie ALD z hlediska získání kvalitních tenkých vrstev nitridu hliníku není jednoduchým úkolem a na cestě k ní vyvstává mnoho problémů. Významným výsledkem je zejména úspěšná implementace dosud nevyzkoušených prekurzorů pro depozici tenkých vrstev nitridu hliníku metodou ALD. Rozvoj oboru lze spatřovat v popisu jednotlivých přístupů k depozici tenkých vrstev nitridu hliníku, přičemž každý z přístupů má své nesporné kladné a stinné stránky. Po dobu denního doktorského studia se vedle výzkumné činnosti Rashid Dallaev věnoval výuce v laboratorním praktiku. Dále se spolupodílel na řešení dvou projektů GAČR (ampérometrické senzory, PVDF), a dalších projektů využívající jeho znalosti charakterizace materiálů s využítím vybavení nejen v CEITEC Core facilities. V minulém roce na podzim absolvoval měsíční stáž v laboratoři Tandem na Uppsalské univerzitě ve Švédsku. Je autorem nebo spoluautorem 33 publikací, u 8 z nich je prvním autorem. Spolupodílel se na 16 článcích v impaktovaných časopisech (z nichž valná část spadá do prvního či druhého kvartilu daných oborů), 16 publikacích v databázi Scopus, několika článcích na národních a mezinárodních konferencích. V minulém roce byl požádán o recenzi pro časopis Surface and Coating Technology Journal. Podle databáze Scopus (31.5.2021) má jeho h-index hodnotu 5 a jeho články mají 91 citací. Závěrem lze konstatovat, že Mgr. et Mgr. Rashid Dallaev v průběhu doktorského studia získal široké znalosti v daném oboru, prokázal schopnost samostatné vědecké práce, navazovat vědeckou spolupráci a dosáhl řady původních výsledků. Doporučuji proto, aby byla jeho disertace přijata k obhajobě.
viz pdf
viz pdf
eVSKP id 135933